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產(chǎn)品分類
高爾夫金屬配件PVD真空電鍍
真空濺射鍍膜
1、真空濺射鍍膜的定義
給靶材施加高電壓（形成等離子狀態(tài)），使正荷電氣體離子撞擊靶材、金屬原子飛彈，而在樣品表面形成金屬皮膜的方法。
2、磁控濺射鍍膜的定義
電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發(fā)生碰撞，電離出大量的氬離子和電子，電子飛向基片，氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉積在基片上成膜。
產(chǎn)品說明
真空濺射鍍膜的特點
對于任何待鍍材料,只有能做成靶材,就能實現(xiàn)濺射
濺射所獲得的薄膜與基片結(jié)合良好
濺射所獲得的薄膜純度高,致密性好
濺射工藝可重復(fù)性好,膜厚可控制,同時可以在大面積基片上獲得厚度均勻的薄膜
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