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PVD技術(shù)出現(xiàn)于，制備的薄膜具有高硬度、低摩擦系數(shù)、很好的耐磨性和化學(xué)穩(wěn)定性等優(yōu)點(diǎn)。最初在高速鋼刀具領(lǐng)域的成功應(yīng)用引起了世界各國(guó)制造業(yè)的高度重視，人們?cè)陂_(kāi)發(fā)高性能、高可靠性涂層設(shè)備的同時(shí)，也在硬質(zhì)合金、陶瓷類(lèi)刀具中進(jìn)行了更加深入的涂層應(yīng)用研究。與CVD工藝相比，PVD工藝處理溫度低，在600℃以下時(shí)對(duì)刀具材料的抗彎強(qiáng)度無(wú)影響；薄膜內(nèi)部應(yīng)力狀態(tài)為壓應(yīng)力，更適于對(duì)硬質(zhì)合金精密復(fù)雜刀具的涂層；PVD工藝對(duì)環(huán)境無(wú)不利影響，符合現(xiàn)代綠色制造的發(fā)展方向。當(dāng)前PVD涂層技術(shù)已普遍應(yīng)用于硬質(zhì)合金立銑刀、鉆頭、階梯鉆、油孔鉆、鉸刀、絲錐、可轉(zhuǎn)位銑刀片、車(chē)刀片、異形刀具、焊接刀具等的涂層處理。

      PVD技術(shù)不僅提高了薄膜與刀具基體材料的結(jié)合強(qiáng)度，涂層成分也由第一代的TiN發(fā)展為T(mén)iC、TiCN、ZrN、CrN、MoS2、TiAlN、TiAlCN、TiN-AlN、CNx、DLC和ta－C等多元復(fù)合涂層。

      一: 請(qǐng)問(wèn)什么是PVD? 真空電鍍加工真空鍍膜技術(shù)

　　PVD是英文Physical Vapor Deposition的縮寫(xiě)，中文意思是“物理氣相沉積”，是指在真空條件下，用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術(shù)。

　　二: 請(qǐng)問(wèn)什么是PVD鍍膜? 什么是PVD鍍膜機(jī)?

　　 PVD(物理氣相沉積)技術(shù)主要分為三類(lèi)，真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。相對(duì)于PVD技術(shù)的三個(gè)分類(lèi)，相應(yīng)的真空鍍膜設(shè)備也就有真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)、真空濺射鍍膜機(jī)和真空離子鍍膜機(jī)。近十多年來(lái)，真空離子鍍技術(shù)的發(fā)展是最快的，它已經(jīng)成為了當(dāng)代最先進(jìn)的表面處理方法之一。我們通常所說(shuō)的PVD鍍膜，指的就是真空離子鍍膜;通常所說(shuō)的PVD鍍膜機(jī)，指的也就是真空離子鍍膜機(jī)。

　　三: 請(qǐng)問(wèn)PVD鍍膜的具體原理是什么?

　　離子鍍膜(PVD鍍膜)技術(shù)，其原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)電離，在電場(chǎng)的作用下，使被蒸發(fā)物質(zhì)或其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。

　　四: 請(qǐng)問(wèn)PVD鍍膜與傳統(tǒng)的化學(xué)電鍍(水電鍍)相比有何優(yōu)點(diǎn)?

　　PVD鍍膜與傳統(tǒng)的化學(xué)電鍍的相同點(diǎn)是，兩者都屬于表面處理的范疇，都是通過(guò)一定的方式使一種材料覆蓋在另一種材料的表面。兩者的不同點(diǎn)是：PVD鍍膜膜層與工件表面的結(jié)合力更大，膜層的硬度更高，耐磨性和耐腐蝕性更好，膜層的性能也更穩(wěn)定;PVD鍍膜可以鍍的膜層的種類(lèi)更為廣泛，可以鍍出的各種膜層的顏色也更多更漂亮;PVD鍍膜不會(huì)產(chǎn)生有毒或有污染的物質(zhì)