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物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition，PVD)技術(shù)是指在真空條件下采用物理方法將材料源（固體或液體）表面氣化成氣態(tài)原子或分子，或部分電離成離子，并通過低壓氣體（或等離子體）過程，在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術(shù)。

物理氣相沉積鍍膜主要分為三類蒸發(fā)鍍、濺射鍍和離子鍍。磁控濺射鍍只是濺射鍍的一種方法，不過最為主流。作為裝飾類鍍膜，現(xiàn)在以離子鍍最為常見。

以不銹鋼鈦金舉例，大致了解一下PVD技術(shù)。不銹鋼工件清洗干凈后進(jìn)入真空罐，抽真空到10^-3Pa這個(gè)級(jí)別，再通入氮?dú)獾?.1-1.0Pa，鈦金屬放電通過等離子化的氮?dú)?，沉積到（負(fù)偏壓）的工件上。沉積物是金色的氮化鈦（TiN）。

這種裝飾性鍍膜，厚度一般都是低于1微米，別想著性能有多少好。當(dāng)然了，如果有幾個(gè)微米厚度，那硬度就完美了，可以勝任切削刀具的鍍膜。

一般PVD單層就夠了，多層一般是為了增加結(jié)合力。多層每一次抽真空，時(shí)間都是很長（20-30min），效率低，單價(jià)高。另外性能好的鍍膜，沉積速度都不快，一般1微米/小時(shí)。